2年后，种花家再度研制出第一支锗晶体管，种花家具备了制造电子计算机基础元器件的技术实力。

进入60年代后，国内发生三年自然灾害，国家各行各业面临着巨大的压力。

即便是在如此困难的情况下，种花家依然没有放弃，1961年开始?接触式光刻机的研发，1962年成功制造出国内第一代硅平面晶体管。

而制造硅平面晶体管，就需要用到现代光刻机技术的雏形——蚀刻电路技术。

凭借此前的成功经验，在1965年种花家科学院微电子研究所与沪上电子仪器厂联合设计研发种花家第一台光刻机——65型接触式光刻机。

1966年，仅仅一年的时间，种花家成功研制出自己的第一台接触式光刻机，标志着种花家在光刻机技术上的初步探索。

虽然65型光刻机以今天的眼光来看，性能相当简陋，但要知道，这可是在50多年前取得的技术成果。

至少，种花家当时距离西方光刻机技术的差距不到5年，例如鹰酱GCA公司造出第一台接触式光刻机的时间就是在1961年。

总体而言，在60年代的背景下，中国在半导体领域的技术实力绝对位居全球第一梯队。

?70年代初期，中国开始了接近式光刻机的研发并在1978年踏入该领域。

但是在1978 年，美国GCA公司推出了世界上第一台商用步进光刻机DSW4800，它能够以10:1的比例将芯片线路集成在10毫米见方的区域上，单台售价45万美元。

而中国半导体行业则被卡在了新型光刻机的研发门槛上，每年耗费着数额不小的研发经费，但产出的成果却不尽如人意。

?进入80年代后，国产光刻机研发取得显着进步。1980年，?清华大学?徐端颐团队研制出?分布式投影光刻机，精度达到3微米，接近国际主流水平。

1981年种花家成功研制出?JKG-3型接近式光刻机。

而这一年的好消息不止这一个，我国的第一台扫描式投影光刻机也在这一年通过鉴定。