虽然他们在一开始听到这个消息的时候。

大多数人都是对此感到无比的震惊。

但是随着细细思考之下。

他们就能完全能够推断出一些东西。

不过即使是他们。

一时间也想不清楚徐浩为何要这样做。

难不成徐浩对自己在半导体领域的理论体系的研究这么有自信的吗？

更不明白一向成熟稳重的徐浩为何这次会这般离谱。

怀揣着疑问和不解。

也是出于对龙国元首嘱咐的遵守。

所有光刻机专家无不是细细查阅徐浩编写的手册上的信息。

“设计和模拟新的晶体管结构，以在2纳米尺度上实现高性能和低功耗。这可能涉及纳米片、纳米线或其他先进的纳米结构。“

“其次在光刻与刻蚀技术上。开发或采用先进的光刻技术，以在硅片上精确刻画纳米级别的电路图案。”

“使用极紫外光刻技术或纳米压印技术来实现这一目标。随后，使用刻蚀技术将图案转移到硅片上。”

“在材料与工艺验证一过程上。在实验室环境中制造和测试小批量的2纳米精度芯片样品。通过电学、热学和可靠性测试来验证芯片的性能和稳定性。”

“根据测试结果优化材料、结构和制造工艺。重复实验过程，直到达到所需的性能标准和稳定性。”

……

随着在场一众光刻机专家对徐浩所编写的手册上的内容不断的解读下。

他们再也没有了当初拿起手册时候的质疑和不屑。

转而是一脸的慎重和惊疑。

因为他们发现。

仅仅是从手册的前面内容来看。

徐浩不仅从实验步骤，方案和思路等等几乎可以说是各个方面都进行了描述和推断。

并且根据在场的一众光刻机专家如今在半导体领域掌握的理论体系来看。

这些内容完全正确。

但是这依旧没有打消这些光刻机专家心中的惊疑。

因为仅仅只是前面的内容还并不能代表什么。

手册的内容越到后面才会越复杂，相对应的实验的难度也会更高。

这一部分的是否正确将代表这本手册的真正价值。

也将对在场的一众光刻机专家心中的惊疑有一个解答。